Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
Diffusion and trapping of implanted hydrogen in a Si/Si:B/Si structure
XX
BSO - Titre
Diffusion and trapping of implanted hydrogen in a Si/Si:B/Si structure
XX
DOI
DOI
10.1016/j.mssp.2017.05.025
XX
DOAI
DOAI
10.1016/j.mssp.2017.05.025
XX
Identifiant WoS
WOS:000403992400018
XX
Accès ouvert
OA - Non
XX
Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Non OA
XX
Editeur
Elsevier
XX
Source
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
XX
ISSN
1369-8001
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
3 - Correcte
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INP - Institut de physique
XX
uid:/87JNBXK8
12/10/2021 14:52:45 (latest)
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